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首頁 > 產(chǎn)品中心 > HITACHI日立 > 日立掃描離子電導(dǎo)顯微鏡 > HF5000日立球差場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡

日立球差場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡

簡(jiǎn)要描述:日立球差場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡200 kV相差校正TEM/STEM,平衡了空間分辨率和傾斜、分析性能
通過單極片實(shí)現(xiàn)0.078 nm的STEM空間分辨率和高樣品傾斜度、高立體角EDX。
透射電子顯微鏡除了延續(xù)了日立公司配備的具有掃描透射電子顯微鏡“HD-2700"的球面像差校正器的功能、自動(dòng)校正功能,像差校正

  • 產(chǎn)品型號(hào):HF5000
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間:2023-06-20
  • 訪  問  量:1511
產(chǎn)品詳情
  1. 日立球差場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡HF5000

  2. 標(biāo)配日立生產(chǎn)的照射系統(tǒng)球差校正器(附自動(dòng)校正功能)

  3. 搭載具有高輝度、高穩(wěn)定性的冷場(chǎng)FE電子槍

  4. 鏡體和電源等的高穩(wěn)定性使機(jī)體的性能大幅度提升

  5. 觀察像差校正SEM/STEM圖像的同時(shí)觀察原子分辨率SE圖像

  6. 采用側(cè)面放入樣品的新型樣品臺(tái)結(jié)構(gòu)以及樣品桿

  7. 支持高立體角EDX*的對(duì)稱配置(對(duì)稱Dual SDD*

  8. 采用全新構(gòu)造的機(jī)體外殼蓋

  9. 配備日立生產(chǎn)的高性能樣品桿*

  • *

  • 選項(xiàng)

高輝度冷場(chǎng)FE電子槍×高穩(wěn)定性×日立制球面像差校正器

以長年積累起來的高輝度冷場(chǎng)FE電子源技術(shù)為基礎(chǔ),進(jìn)行優(yōu)化,進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)電子槍的高度穩(wěn)定性。
此外,還更新了鏡體,電源系統(tǒng)和樣品臺(tái),以支持觀察亞?圖像,并提升了機(jī)械和電氣穩(wěn)定性,然后與日立公司的球差校正器結(jié)合使用。
不僅可以穩(wěn)定地獲得更高亮度更精密的探頭,而且自動(dòng)像差校正功能可以實(shí)現(xiàn)快速校正,從而易于發(fā)揮設(shè)備的固有性能。使像差校正可以更實(shí)用。

Si(211)單晶體HAADF-STEM圖像(左)和圖像強(qiáng)度曲線分布(右下)、FFT功率譜(右上)
Si(211)單晶體HAADF-STEM圖像(左)和圖像強(qiáng)度曲線分布(右下)、FFT功率譜(右上)

支持高立體角EDX*的對(duì)稱Dual SDD*

支持雙重配置100 mm2 SDD檢測(cè)器,以實(shí)現(xiàn)更高的靈敏度和處理能力進(jìn)行EDX元素分析。
由于第二檢測(cè)器位于第一檢測(cè)器的對(duì)面位置,因此,幾乎不會(huì)因?yàn)闃悠穬A斜,導(dǎo)致X射線中的信號(hào)檢測(cè)量發(fā)生變化。所以,即使是結(jié)晶性樣品,也不用顧忌信號(hào)量,可*按照樣品的方向與位置進(jìn)行元素分析。
此外,對(duì)于電子束敏感樣品、低X光輻射量的樣品,除了原子列映射,在低倍、廣視野的高精細(xì)映射等領(lǐng)域也極為有效。

GaAs(110)的原子柱EDX映射
GaAs(110)的原子柱EDX映射

球差場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡HF5000像差校正SEM圖像/STEM圖像 同時(shí)觀察

配有標(biāo)配二次電子檢測(cè)器,可同時(shí)觀察像差校正SEM/STEM圖像。通過同時(shí)觀察樣品的表面和內(nèi)部結(jié)構(gòu),可以掌握樣品的三維構(gòu)造。
在像差校正SEM圖像中,除了可以通過校正球差來提高分辨率之外,還可以獲取更真實(shí)地樣品表面圖像。

Au/CeO2催化劑的SEM/ADF-/BF-STEM圖像(上段)和Au粒子的高分辨率圖像(下段)
Au/CeO2催化劑的SEM/ADF-/BF-STEM圖像(上段)和Au粒子的高分辨率圖像(下段


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